セミナー情報

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東レリサーチセンター
  • 2026年04月22日(水) 13:00-

*お申込みは、原則、講座開催日の3営業日前まで

発生ガスには、半導体製造工程やクリーンルームで発生する比較的低濃度に汚染物質を含有する発生ガス(低濃度汚染ガス)、工業材料や環境に由来して発生する比較的高濃度に汚染物質を含有する発生ガス(高濃度汚染ガス)があります
本講座では、これら発生ガスについて現場でのガス分析(サンプリング)から、分析手法(TPD-MS 等)および機器の基礎、データの解釈までを網羅して講義します。また、発生ガス分析において重要な観点である法規制についても講義します。

【想定受講者】
〇発生ガスで困っている方
〇TPD-MS、GC分析担当者
〇製造工程や作業環境管理者
〇排ガス、樹脂成型、半導体、クリーンルーム、臭気に関連する研究者

キーワード
ガス分析,分析手法(TPD-MS 等)
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